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    ++ SÜSS Microtec Hammernews !!! ++ - 500 Beiträge pro Seite

    eröffnet am 17.01.06 14:13:15 von
    neuester Beitrag 03.05.06 19:32:04 von
    Beiträge: 7
    ID: 1.033.282
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      Avatar
      schrieb am 17.01.06 14:13:15
      Beitrag Nr. 1 ()
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      17.01.2006 13:44


      SUSS MicroTec Wins Multiple Orders with New Mask Aligner Concept

      SUSS MicroTec (FWB:SMH)(GER:SMH), the world leading supplier of full-field exposure systems, today announced that it has already received eight orders for a total of thirteen machines for its brand-new MA200Compact. Seven machines have been installed last year, the rest will be shipped in 2006. The MA200Compact is a production full-field exposure system featuring a new concept, that enables the use of cost effective mask aligner technology in areas where 1x steppers used to dominate. All customers chose the MA200Compact over alternative systems due to its high precision, low cost of ownership and flexibility for processing wafers of different sizes and photo resist thickness.

      "With the MA200Compact SUSS MicroTec has developed a fab-friendly mask aligner featuring the most compact footprint and the highest precision available for a production aligner today", comments Lorenz Ziegltrum, Business Manager for Mask Aligners at SUSS. "The system combines proven technology from our mask-alignment and coat/develop clusters with innovative features such as the patent pending DirectAlign(R) option. With a guaranteed alignment accuracy of 0.5 microns at 3 sigma DirectAlign increases the mask aligner process window for a variety of applications such as thick resist MEMS, and wafer level packaging. The new capabilities of the SUSS MA200Compact also enable it to overcome existing resolution limitations for ultra fine-pitch gold bumping."

      Thick resist photolithography is an indispensable element of MEMS processing, wafer bumping and advanced wafer level packaging in general. The MA200Compact can be equipped with high resolution exposure optics enabling near vertical sidewalls at highest aspect ratios in resist films up to 100 microns and thicker. In addition, the MA200Compact supports SUSS SupraYield, a patented package of technology enhancements, which increases resolution, improves overlay accuracy and boosts wafer yield. SupraYield enables cost effective mask aligner technology to meet even the most demanding performance criteria.

      About SUSS MicroTec

      SUSS MicroTec is a leading supplier of production, process and test technology for the semiconductor industry. SUSS maintains its leadership position with over 7,000 systems installed worldwide. SUSS products include coating developing systems, 1X full-field lithography (1XFFL) systems, substrate bonders, flip-chip bonders and probe systems. Headquartered in Munich, Germany, SUSS has 5 international manufacturing sites and provides support from sales and service centers in North America, Europe, Asia and Japan. For more information, please visit http://www.suss.com

      Quelle:
      http://www.finanznachrichten.de/nachrichten-2006-01/artikel-…

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      Wenn das mal keine Hammermeldung ist, dann weiß ich auch nicht mehr weiter…



      So long maxeddi
      Avatar
      schrieb am 17.01.06 14:20:42
      Beitrag Nr. 2 ()
      die haben es wie immer nicht nötig, sowas auf deutsch zu publizieren

      hat hier am markt nichts verloren in meinen augen, wer so schäbig mit seinen aktionären umgeht, bleibt ein klarer verkauf imho
      Avatar
      schrieb am 17.01.06 14:22:17
      Beitrag Nr. 3 ()
      da ist kein neuer Auftrag (den haben sie letztes
      Jahr schon bekannt gegeben)

      das ist wohl mehr ein Statement zur erfolgreichen
      Einführung der Maschinen
      Avatar
      schrieb am 17.01.06 14:24:26
      Beitrag Nr. 4 ()
      @mczock:

      Exakt, und das ist das Teil:

      Avatar
      schrieb am 17.01.06 19:40:54
      Beitrag Nr. 5 ()
      Ist außerdem im Vorfeld "zufällig" schon mal schnell 30% gelaufen! :D

      :cool:

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      Avatar
      schrieb am 03.05.06 19:32:04
      Beitrag Nr. 6 ()
      DGAP-Adhoc: Süss MicroTec AG: Sehr positives erstes Quartal 2006
      Leser des Artikels: 116


      Süss MicroTec AG / Quartalsergebnis

      03.05.2006

      Ad-hoc-Meldung nach § 15 WpHG übermittelt durch die DGAP - ein Unternehmen der EquityStory AG.Für den Inhalt der Mitteilung ist der Emittent verantwortlich.---------------------------------------------------------------------------

      - Bei Umsatz und Auftragseingang höchste Werte seit 2001- Ergebnis nach Steuern mit 3,7 Mio. EUR deutlich positiv - Unverändert positives Marktumfeld

      München, 03. Mai 2006 - SÜSS MicroTec (ISIN DE0007226706) ist nach einembereits ausgesprochen guten vierten Quartal 2005 sehr erfolgreich in dasJahr 2006 gestartet. Der Umsatz stieg gegenüber dem Vorjahreszeitraum um98% auf 39,1 Mio. EUR (VJ: 19,7 Mio. EUR).

      Die Rohertragsmarge verbesserte sich von 35,4% auf 45,0%. Beim EBITerreichte der Ausrüster für die Halbleiterbranche ein positives Ergebnisvon 4,8 Mio. EUR (VJ: minus 4,9 Mio. EUR). Das Ergebnis nach Steuern betrug3,7 Mio. EUR (VJ: minus 5,3 Mio. EUR). Die positiven Effekte der in denletzten zwei Jahren durchgeführten Restrukturierungsmaßnahmen wirkten sicherstmals auch auf die Ergebnisentwicklung aus. Sowohl die Rohertragsmargeals auch die Overheadkosten bewegen sich jetzt voll im Zielkorridor.

      Die positive Geschäftsentwicklung zeigte sich auch beim Auftragseingang.Dieser lag mit 40,6 Mio. EUR 69% über dem Vorjahreswert von 24,0 Mio. EUR.Die Investitionsbereitschaft in den Märkten Mikrosystemtechnik und AdvancedPackaging untermauert die optimistische Einschätzung der Marktentwicklung.Insbesondere die Segmente Lithografie und Substrat Bonder konnten vondiesem günstigen Umfeld erheblich profitieren.


      Überblick Segmente erstes Quartal 2006 im Jahresvergleich:

      LITHOGRAFIE: Im größten Segment des Konzerns (Umsatzanteil 66%)entwickelten sich Umsatz (25,7 Mio. EUR nach 11,5 Mio. EUR; +124%),Auftragseingang (25,3 Mio. EUR nach 11,1 Mio. EUR; +128%) undSegmentergebnis (5,6 Mio. EUR nach minus 2,5 Mio. EUR; +325%) sehr positiv.Die hohe Nachfrage nach Lithografie-Produkten (Mask Aligner, Coater,Developer) war ungebrochen.

      SUBSTRAT BONDER: SÜSS erwirtschaftete deutliche Zuwächse bei Umsatz (3,3Mio. EUR nach 0,6 Mio. EUR) und Auftragseingang (4,7 Mio. EUR nach 0,8Mio. EUR). Diese Entwicklungen zeigen, dass sich die Marktposition dieserProduktlinie deutlich verbessert hat. Das Segmentergebnis verbesserte sichvon minus 0,8 Mio. EUR auf minus 0,1 Mio. EUR. Insbesondere die SubstratBonder für Produktionsanwendungen werden vom Markt sehr gut angenommen. Dierege Nachfrage basiert auf technologischen Wettbewerbsvorteilen für SÜSSbei automatischen Bondern.

      DEVICE BONDER: Der Auftragseingang verbesserte sich auf 1,7 Mio. EURgegenüber 0,9 Mio. EUR. Der Umsatz entwickelte sich rückläufig (0,3 Mio.EUR nach 0,5 Mio. EUR). Dies ist darauf zurück zu führen, dass sichEndabnahmen auf das zweite Quartal verschoben. Das Ergebnis verbessertesich leicht von minus 0,5 Mio. EUR auf minus 0,3 Mio. EUR. Im zweitenQuartal ist eine deutliche Umsatzsteigerung verbunden mit einerentsprechenden Ergebnisverbesserung zu erwarten.

      TEST SYSTEME: Während sich der Umsatz in diesem Segment positiv entwickelte(6,5 Mio. EUR nach 5,2 Mio. EUR, +26%), blieb der Auftragseingang (5,7 Mio.EUR nach 8,3 Mio. EUR; minus 32%) hinter dem sehr guten Vergleichswertzurück. Die Angebotsaktivität ist jedoch auch in diesem Segment hoch, sodass nicht von einer Trendwende auszugehen ist. Das Segmentergebnis konntevon minus 0,7 Mio. EUR auf 0,7 Mio. EUR (+190%) gesteigert werden.

      SONSTIGE: Dieses Segment enthält neben den Geschäftsfeldern Fotomasken,Mikrooptik und Holdingfunktionen auch C4NP. Der Umsatz im ersten Quartalstieg im Jahresvergleich von 1,9 Mio. EUR auf 3,3 Mio. EUR (+68%),hauptsächlich war dies durch die positive Entwicklung des Geschäftes mitFotomasken beeinflusst. Der Auftragseingang erreichte 3,3 Mio. EUR nach 2,9Mio. EUR (+14%). Der Segmentergebnis betrug minus 0,8 Mio. EUR (Q1/2005:minus 1,6 Mio. EUR), wobei dieser Verlust strukturell bedingt ist: imErgebnis sind die nicht auf die Segmente umgelegten Kosten der Holdingenthalten. Hinsichtlich C4NP besteht nach wie vor das Ziel, im laufendenJahr Aufträge für zwei bis drei Linien zu erhalten.

      SÜSS MicroTec ist weiterhin sehr zuversichtlich, 2006 ein Umsatzwachstumgemäß den Erwartungen für die Halbleiterzulieferindustrie von rund 10% imJahresvergleich zu erreichen. Dies entspricht einem Umsatz für 2006 vonknapp 130 Millionen EUR. Auf Basis dieses Umsatzes erwartet das Unternehmeneine EBIT-Marge von 6 bis 8 Prozent.

      Die Ergebnisse Q1/2006 im Überblick:

      Angaben in Mio. Euro Q1/2006 Q1/2005Auftragseingang 40,6 24,0Auftragsbestand 85,5 69,9Umsatzerlöse 39,1 19,7Eigenkapital 87,7 84,2Eigenkapitalquote 55,4% 53,5%Free Cash Flow 6,7 3,7Rohertrag 17,6 7,0Rohertragsmarge 45,0% 35,4%EBIT 4,8 -4,9EBIT-Marge 12,3% -24,7%EAT(Ergebnis nach Steuern) 3,7 -5,3EPS, verwässert(Ergebnis pro Aktie in 0,20 -0,35EURO)Mitarbeiter 689 715


      Den Quartalsbericht Q1/2006 finden Sie unter www.suss.de (pdf zum Download)

      Weitere Informationen erhalten Sie bei:

      SÜSS MicroTec AG, Investor Relations, Barbara v. Frankenberg

      Tel.: +49 (0) 89 / 320 07-314, Fax: +49 (0) 89/ 320 07-450, E-Mail: b.frankenberg@suss.de



      DGAP 03.05.2006 --------------------------------------------------------------------------- Sprache: DeutschEmittent: Süss MicroTec AG Schleissheimer Strasse 90 85748 Garching b. München DeutschlandTelefon: +49 (0)89 32007-314Fax: +49 (0)89 32007-450Email: ir@suss.deWWW: www.suss.deISIN: DE0007226706WKN: 722670Indizes: Börsen: Geregelter Markt in Frankfurt (Prime Standard); Freiverkehr in Berlin-Bremen, Düsseldorf, Hamburg, München, Stuttgart Ende der Mitteilung DGAP News-Service ---------------------------------------------------------------------------



      --------------------------------------------------------------------------------


      Autor: EquityStory AG
      © EquityStory AG
      Avatar
      schrieb am 16.05.06 11:56:36
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