Roth + Rau AG geht in Lichtgeschwindigkeit ab

16.01.2007 09:40
DGAP-News: Roth & Rau AG
Roth & Rau AG / Sonstiges

16.01.2007

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- Roth & Rau erhält den 'Chemnitzer Meilenstein' - Vereinbarung zur Zusammenarbeit mit Fraunhofer-Institut in der Dünnschicht-Solarzellentechnologie unterzeichnet

Hohenstein-Ernstthal, 16. Januar 2007 - Die Roth & Rau AG wurde gestern mit dem 'Chemnitzer Meilenstein' ausgezeichnet. Einmal jährlich würdigt der Chemnitzer Marketingclub mit diesem Preis unternehmerische Glanzleistungen. Die besondere Leistung der Roth & Rau AG sieht die Jury insbesondere in der weitsichtigen, frühzeitigen und mutigen Ausrichtung des Unternehmens auf ein strategisches Wachstumsfeld. Dr. Dietmar Roth, CEO der Roth & Rau AG: 'Wir bedanken uns bei dem Vorstand des Chemnitzer Marketingclubs für diese besondere Auszeichnung. Obwohl wir ein international agierendes Unternehmen sind, ist uns die starke regionale Verwurzelung wichtig. Wir sind stolz, einen Beitrag zur positiven wirtschaftlichen Entwicklung der Region Chemnitz beitragen zu können.'

Im Anschluss an die Preisverleihung unterzeichneten Dr. Dietmar Roth und Prof. Eicke Weber, Direktor des Fraunhofer-Instituts für Solare Energiesysteme (ISE), eine gemeinsame Absichtserklärung (Memorandum of Understanding), die die Kommerzialisierung der 'epitaktisches Waferäquivalent' genannten Dünnschicht-Solarzellentechnologie vorsieht. Die Überführung dieser am ISE entwickelten Technologie zur Produktionsreife soll innerhalb eines etwa 2,5-jährigen Entwicklungsprojektes vorangetrieben werden. Die Arbeiten werden voraussichtlich innerhalb der kommenden drei Monate beginnen.

Bei der neuen Technologie werden Wafer als Basis verwendet, die aus minderwertigem, kostengünstigem und vor allem ausreichend vorhandenem Silizium bestehen. Darauf wird eine dünne Schicht hochwertiges Silizium aufgetragen. Der so aus einem Material-Mix entstandene Wafer kann anschließend wie jeder herkömmliche Wafer weiterverarbeitet werden. Der besondere Vorteil der Technologie liegt in dem enormen Kosteneinsparungspotenzial bei nur geringem Verlust an Wirkungsgrad. 'Wir sehen in dieser Waferäquivalent-Technologie eine vielversprechende Alternative sowohl zu den konventionellen Wafertechnologien als auch zu den bislang bekannten Dünnschichttechnologien. Besonders interessant ist für uns, dass wir dabei auf die bewährte kristalline Technologie zurückgreifen können und somit ein Einsatz innerhalb unseres Konzeptes der schlüsselfertigen Produktionslinien durchaus denkbar ist', erklärt Dr. Roth.

Über die Roth & Rau AG: Die seit dem 11. Mai 2006 an der Frankfurter Wertpapierbörse notierte Roth & Rau AG (ISIN DE000A0JCZ51) entwickelt und fertigt Anlagen und Prozesssysteme auf Basis der Plasma- und Ionenstrahltechnologie und liefert diese an einen weltweiten Kundenstamm aus den unterschiedlichsten Branchen. Im Geschäftsfeld Photovoltaik bietet Roth & Rau vor allem Antireflexbeschichtungsanlagen für kristalline Silizium-Solarzellen an. Mit einem weltweiten Marktanteil von rund einem Drittel ist Roth & Rau in diesem Bereich Marktführer. In dem zweiten Geschäftsfeld Plasma- und Ionenstrahltechnologie, das im vergangenen Geschäftsjahr rund 30 % zum Umsatz beisteuerte, entwickelt das Unternehmen Anlagen für die Semiconductor-, die Automobilindustrie sowie für Forschung und Entwicklung in verschiedenen Branchen.

Kontakt: Haubrok Investor Relations GmbH Simone Gorny Kaistraße 16 40221 Düsseldorf Tel.: +49 (0) 211/30126-130 Fax: +49 (0)211/30126-172 E-Mail: s.gorny@haubrok.de


DGAP 16.01.2007 =--------------------------------------------------------------------------

Sprache: Deutsch Emittent: Roth & Rau AG Gewerbering 3 OT Wüstenbrand 09337 Hohenstein-Ernstthal Deutschland Telefon: 0372349880 Fax: 03723 498825 E-mail: silvia.roth@roth-rau.de WWW: www.roth-rau.de ISIN: DE000A0JCZ51 WKN: A0JCZ5 Indizes: Börsen: Freiverkehr in Berlin-Bremen, Düsseldorf, München, Stuttgart; Entry Standard in Frankfurt

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