..eben per e-mail erhalten - übersetzen bitte
Charly
OBDUCAT: OBDUCAT FÅR ETT FÖRSTA NIL-PATENT BEVILJAT I KINA
Obducat har fått ett första NIL-patent beviljat i Kina. Patentet avser moment inom nanoimprintlitografi (NIL), s.k. flerlagersresist.
Patentet fokuserar på s.k. flerlagersresist, vilket resulterar i en produktionsprocess som ger en större toleransnivå vid produktion av små strukturer. Processen kan användas både vid tillverkning av stampers såväl som imprints. Processen möjliggör därmed också högre kostnadseffektivitet vilket ytterligare förstärker den övergripande konkurrensfördel NIL erbjuder i förhållande till alternativa tekniker.
Obducats VD Patrik Lundström kommenterar patentet:
"Detta är ännu en viktig milstolpe för Obducat. Vi fick för en dryg månad sedan ett NIL-patent beviljat i USA och att vi nu också får ett för vår verksamhet centralt patent godkänt i Kina är ytterst positivt. Den kinesiska marknaden är på sikt mycket viktig för nanoimprintlitografi och därmed också för Obducat. Som bekant levererade Obducat NIL-system till två kinesiska universitet under 2004. Detta patent stärker vår position i Kina."
För ytterligare information kontakta:
Patrik Lundström, VD, 040 – ; 36 21 00 eller 0703 – 27 37 38
Obducat AB utvecklar och levererar teknologier, produkter och processer för produktion och replikering av avancerade mikro- och nanostrukturer. Obducats tjänster och produkter riktar sig i första hand till expansiva företag inom datalagrings-, halvledar-, kretskorts- och sensorindustrierna. Obducats teknologier omfattar elektronstråleteknik och nanoimprintteknik. Obducat finns i Sverige och Storbritannien och har huvudkontor i Malmö. Aktien är noterad på NGM-listan. Läs mer på www.obducat.com
This information was distributed by NG News - www.ngnews.se