NEC-gibt Gas! - 500 Beiträge pro Seite
eröffnet am 18.07.00 19:15:13 von
neuester Beitrag 22.07.00 12:31:57 von
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ID: 189.028
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NEC kaufen Datum : 12.07.2000
Zeit :15:57
Die Aktie der NEC Corporation (WKN 853675) biete nach Auffassung der
Analysten vom Börsenbrief NewTec-Investor eine günstige
Einstiegsgelegenheit.
Eine knallharte Umstrukturierung dürfte den japanischen und international
mit führenden Entwickler und Hersteller von Computern, Chips,
Telekommunikationsgeräten und Zubehör nun wieder in die Gewinnzone führen.
Vor allem die starke Nachfrage nach DRAM-Chips stütze dabei die positive
Entwicklung. Börsengänge einiger Töchter, Fusionen und Akquisitionen sowie
de reinstieg ins E-Business sollen in Zukunft die EK-Rentabilität von
derzeit 1% auf 15% im Jahr 2003 steigern.
Im Geschäftsjahr 2000/01 wolle der Konzern bei einem anvisierten Umsatz
von knapp 5.300 Billionen Yen einen Gewinn je Aktie von 40 Yen
erwirtschaften.
Die aktuelle Kursschwäche zum Einstieg in den vielversprechenden Titel
nutzen, so die Experten.
Gruß
01
Zeit :15:57
Die Aktie der NEC Corporation (WKN 853675) biete nach Auffassung der
Analysten vom Börsenbrief NewTec-Investor eine günstige
Einstiegsgelegenheit.
Eine knallharte Umstrukturierung dürfte den japanischen und international
mit führenden Entwickler und Hersteller von Computern, Chips,
Telekommunikationsgeräten und Zubehör nun wieder in die Gewinnzone führen.
Vor allem die starke Nachfrage nach DRAM-Chips stütze dabei die positive
Entwicklung. Börsengänge einiger Töchter, Fusionen und Akquisitionen sowie
de reinstieg ins E-Business sollen in Zukunft die EK-Rentabilität von
derzeit 1% auf 15% im Jahr 2003 steigern.
Im Geschäftsjahr 2000/01 wolle der Konzern bei einem anvisierten Umsatz
von knapp 5.300 Billionen Yen einen Gewinn je Aktie von 40 Yen
erwirtschaften.
Die aktuelle Kursschwäche zum Einstieg in den vielversprechenden Titel
nutzen, so die Experten.
Gruß
01
Der Tec-New-stochmarket-superinvestor ist da aber genau anderer Ansicht
NEC ist meiner Meinung nach einer der Technologieführer
im Bereich der Miniaturisierung von Halbleiterstrukturen.
Langfristig ist NEC deshalb sehr interessant und besitzt
eine große Menge an Patenten in dieser Richtung:
Aus dem letzten Forschungsbericht
The density of integrated circuits is constantly increasing but is now approaching the physical limits of the conventional lithography process. The highest density available today is based on a 0.13µm (130nm) design rule. This is very close to the 100nm limit imposed by the wavelength of the light used in conventional lithography.
To get under the 100nm limit, researchers at NEC and the University of Electro-Communication in Tokyo have been conducting joint studies of Atomic Beam Holography for five years. Atomic waves have wavelengths in the nanometer order. Atoms can be directly manipulated by a hologram to reach a particular position on a substrate and to form desired patterns with nanometer-level accuracy.
In a recent experiment, the joint research team succeeded in making real-time changes in the patterns of neon atoms by applying a bias voltage to an electrode array controlling the hologram. This experiment was a giant step towards the fabrication of complex, three-dimensional, nanometer-order structures.
The goal of our holographic atom manipulation is the nanofabrication of complex semiconductor structures. The technique will involve directly piling germanium and aluminum atoms on the substrate. In addition to increasing density, the new process will save time by eliminating the resist and etching steps in the lithography process.
mfg,
GBF
im Bereich der Miniaturisierung von Halbleiterstrukturen.
Langfristig ist NEC deshalb sehr interessant und besitzt
eine große Menge an Patenten in dieser Richtung:
Aus dem letzten Forschungsbericht
The density of integrated circuits is constantly increasing but is now approaching the physical limits of the conventional lithography process. The highest density available today is based on a 0.13µm (130nm) design rule. This is very close to the 100nm limit imposed by the wavelength of the light used in conventional lithography.
To get under the 100nm limit, researchers at NEC and the University of Electro-Communication in Tokyo have been conducting joint studies of Atomic Beam Holography for five years. Atomic waves have wavelengths in the nanometer order. Atoms can be directly manipulated by a hologram to reach a particular position on a substrate and to form desired patterns with nanometer-level accuracy.
In a recent experiment, the joint research team succeeded in making real-time changes in the patterns of neon atoms by applying a bias voltage to an electrode array controlling the hologram. This experiment was a giant step towards the fabrication of complex, three-dimensional, nanometer-order structures.
The goal of our holographic atom manipulation is the nanofabrication of complex semiconductor structures. The technique will involve directly piling germanium and aluminum atoms on the substrate. In addition to increasing density, the new process will save time by eliminating the resist and etching steps in the lithography process.
mfg,
GBF
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