Lambda erhält Sonderzahlung über 4.4 Mio USD - 500 Beiträge pro Seite

[Heinerle2]

...watch out....

Greetinxx Heinerle2

[sdtm]

s. ad hoc:

"... Kompensationszahlung über 4,4 Mio. US-Dollar für stornierte Lithographieaufträge".

[Cashburner.com]

Denen sind wahrscheinlich
Aufträge über 400 Mio $
verloren gegangen, aber hauptsache
sie bekommen eine Ausgleichszahlung!

[chaggh]

Der Verlust der Aufträge war schon lange bekannt und in die
Bilanz eingerechnet.
Meldung also Positiv.

[Kastor]

Positiv????

Meint ihr das die sich damit den/die Kunden nicht verscherzt haben?
Haben diese Kunden das freiwillig bezahlt?
oder per Klage?

Kastor

[unic]

Bin seit heute wieder drin,erstmal kleine Position!Hat sich bei 8,7 auszusteigen schon rentiert!Falls wir unter 5 gehen verlass ich das Schiff aber wieder!

[unic]

Aber Hallo!Schon Zeit zum Abschied 5,71!Ein toller Wert!

[unic]

Na nichts mehr los hier,aber ganz schön preiswert!Vielleicht mal wieder einen Zock wert.Wenn es jetzt mit der Chipbranche aufwärts gehen sollte gehört Lambda auf die Watchlist!

[Merrill]

German Small Cap Research hat am 07.03.2002 einen ausführlichen Bericht über
die Hauptversammlung veröffentlicht.

Man kann den Bericht entweder als Einzelabruf für einige
Euro abrufen oder über ein kostenloses Probeabonnement.

Weiteres unter: http://www.gsc-research.de

[Swiftnick]

JENOPTIK und Lambda Physik Joint Venture XTREM E technologies liefert ersten EUV-Prototypen aus

Göttingen/ Jena, 8. April 2003 - Die XTREME technologies GmbH, das Nanotechnologie Joint Venture der Lambda Physik AG (WKN 549 427) und der Jenoptik AG (WKN 622 910), hat den ersten Prototypen einer EUV-Strahlquelle ausgeliefert. Strahlquellen im extremen Ultraviolettbereich (EUV) werden zukünftig zur Herstellung noch leistungsfähiger Chipgenerationen eingesetzt. Auftraggeber ist der britische Mikrostepper-Hersteller Exitech, mit dem im Rahmen einer strategischen Forschungspartnerschaft die Entwicklung für den Halbleitereinsatz vorangetrieben wird.

Die EUV-Technologie wird voraussichtlich gegen Ende des Jahrzehnts für die Herstellung besonders leistungsfähigerer Computerchips der übernächsten Generation benötigt. Während die ab 2006/2007 in der Chipproduktion eingesetzten 157nm-Laser Strukturgrößen von unter 50 Nanometer erreichen werden, können mit der nachfolgenden EUV-Technologie noch feinere Strukturgrößen von 30 Nanometer und darunter erzeugt werden.

EUV-Strahlquellen gelten heute unter den Experten als die kritischsten Komponenten der EUV-Technologie. Daß XTREME technologies bereits jetzt den ersten Prototypen ausliefern kann, gilt als wichtiger Meilenstein in der Entwicklung der EUV-Lithographie und unterstreicht die technologisch führende Position des Joint Ventures, an dem die Jenoptik AG und die Lambda Physik AG jeweils 50 Prozent halten. Die EUV-Strahlquelle besitzt die weltweit höchste Effizienz. Sie nutzt eine gepulste elektrische Hochleistungsentladung und den sogenannten Pinch-Effekt zur Erzeugung eines 200 Tausend Grad Celsius heißen Plasmas, das die EUV Strahlung abgibt.

Mit der Fertigstellung des EUV-Prototypen konnte der bei Gründung der Gesellschaft im Jahre 2001 erwartete Zeitplan deutlich unterschritten werden. So wurden ursprünglich erste Umsätze erst für das Jahr 2006 erwartet.

"Wir haben uns für eine XTREME technologies Quelle für den Mikrostepper entschieden, weil diese den derzeit leistungsstärksten und stabilsten EUV-Strahl weltweit anbieten," erläutert Dr. Malcolm Gower, Vorsitzender der Exitech Ltd. in Oxford, GB. "Der EUV-Mikrostepper wird in der ersten Testphase der übernächsten Generation optischer Lithographiesysteme eingesetzt. Diese beginnt bereits 3-5 Jahre vor dem eigentlichen Einsatz in der Chipproduktion."

"Die Auslieferung der Strahlquelle zum jetzigen Zeitpunkt zeigt die technologische Stärke der XTREME technologies und ist Beleg der Richtigkeit unserer Strategie, sich frühzeitig in diesem vielversprechenden Wachstumsmarkt der Zukunft zu positionieren", so Dr. Dirk Basting, Vorstandsvorsitzender der Lambda Physik.

(Quelle: Lambda Physik AG)