China nähert sich der Eigenständigkeit in der 7nm-Chip-Produktion

Nachrichtenquelle: PR Newswire (dt.)
30.11.2020, 07:48  |  339   |   |   

BEIJING, 30. November 2020 /PRNewswire/ -- Ein Nachrichtenbericht von China.org.cn zum Thema: China nähert sich der Eigenständigkeit in der 7nm-Chip-Produktion.

China hat kürzlich neue Durchbrüche im Bereich der 7-nm-Chip-Herstellung erzielt, indem es Angaben wichtiger Branchenakteure zufolge Werkzeuge und Know-how für mehrere Segmente des Herstellungsprozesses entwickelt hat. Dieser Erfolg ist Teil der Gesamtbemühungen, die Abhängigkeit von ausländischen Ausrüstungs- und Materialanbietern zu reduzieren.

Im vergangenen Monat gab Chinas Anbieter von Chip-Anpassungslösungen, „Innosilicon", bekannt, dass er die Tests eines Prototyp-Chips, der auf dem FinFET N+1-Prozess der Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) basiert, abgeschlossen habe. Diese Errungenschaft markiert einen neuen Schritt vorwärts in Chinas heimischer Chipentwicklung. 

An exhibition booth of China's Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) is seen at the 17th China International Semiconductor Expo in Shanghai, Sept. 3, 2019.

Inmitten der von den USA auferlegten Handelsbeschränkungen soll der SMIC-Foundry-Knotenpunkt der neuen Generation mit dem 7nm-Prozess der Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC), der weltgrößten spezialisierten unabhängigen Halbleiter-Foundry [Bezeichnung für Unternehmen, die in ihren Halbleiterwerken Produkte für andere Halbleiterunternehmen herstellt, vgl. Fertigungsbetrieb], vergleichbar sein.

Als Chinas größte Chip-Foundry wird SMIC seinen N+1 7nm-Knoten einführen, der eine erhebliche Verbesserung gegenüber seinem derzeitigen 14 nm-Knoten darstellt. Nach Angaben des Unternehmens weist er eine Leistungssteigerung von 20 Prozent, eine Reduzierung des Stromverbrauchs um 57 Prozent, eine verringerte Logikfläche von 63 Prozent und eine Reduzierung der SoC-Fläche (System on a Chip) um 55 Prozent auf.

Darüber hinaus könnte dieser Fortschritt SMIC in die Lage versetzen, seine Abhängigkeit von den fortschrittlichen EUV-Lithographiemaschinen (Extreme Ultraviolet (EUV)) des niederländischen Mikrochip-Maschinenherstellers ASML zu überwinden, so Liang Mengsong, Co-CEO von SMIC. ASML unterliegt den Exportkontrollen der USA, da seine Produkte amerikanische Technologie enthalten.

Gleichzeitig arbeitet China hartnäckig an der Entwicklung eines eigenen Lithographiesystems.

Das Suzhou-Institut für Nanotechnologie und Nanobionik der Chinesischen Akademie der Wissenschaften (Sinano) hat kürzlich zusammen mit dem Nationalen Zentrum für Nanowissenschaften und -technologie einen Durchbruch bei einer neuen Art von 5nm-Laserlithographietechnologie bekannt gegeben. Experten glauben, dass damit die Grundlage für die Forschung an einer selbst entwickelten fortschrittlichen Lithographiemaschine gelegt werden könnte.

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