AIXTRON SE AIXTRON stellt neues G10-AsP-System auf Photonic West vor / AIXTRONs Planeten-Technologie bereitet den Weg für die nächste Generation hochauflösender Micro LED-Displays und Laser

Herzogenrath, 26. Januar 2023 – AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) bringt die erste vollautomatisierte AsP-Plattform auf den Markt. Die neue Anlage G10-AsP adressiert die wachsenden Anforderungen im Bereich der Micro LED- und Laser-Bauelemente. Als erstes System in der Branche ermöglicht die G10-AsP eine robuste Großserienproduktion, die mit sehr hohen und komplexen Anforderungen verbunden ist.

"Micro LEDs werden die Welt der Displays revolutionieren, da sie eine höhere Lebensdauer, eine bessere Bildqualität und eine sehr gute Energieeffizienz bieten. Diese innovative Technologie stellt den Produktionsprozess aber vor große Herausforderungen, da niedrigste Fehlerquoten und höchste Anforderungen bei der Gleichförmigkeit erreicht werden müssen. Die Antwort darauf ist unsere neue G10-AsP, die den ersten vollautomatisierten Depositionsprozess der Branche bietet. Die neue Anlage ermöglicht den höchsten Durchsatz seiner Klasse mit einer bisher noch nie dagewesenen Homogenität und Defektrate", sagt Dr. Felix Grawert, CEO und President der AIXTRON SE. 

Zum ersten Mal wird eine echte Massenproduktion von Micro LEDs mit strengsten Materialanforderungen und reduzierten Chipgrößen von 10 Mikrometern und weniger zur Realität. Darüber hinaus erfüllt die G10-AsP auch die immer komplexer werdenden Anforderungen bei der Herstellung von InP (Indiumphosphid)-Lasern und VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting Laser) in hohen Stückzahlen.

Die neue Plattform G10-AsP wird am 1. Februar 2023 auf der Photonics West Messe in San Francisco, USA, offiziell vorgestellt. Während dieser Veranstaltung werden AIXTRON-Experten die neue, mit Innovationen vollgepackte Anlage vorstellen, und zeigen, wie sie den höchsten Durchsatz ihrer Branche garantiert.

Die neue vollautomatisierte G10-AsP ist die größte 200mm AsP-Batch-Anlage auf dem Markt. Sie verfügt über eine automatische Reaktorreinigung und eine automatische Waferbeladung mittels hochmodernem C2C-Automatisierungsmodul (Cassette-to-Cassette). Für 200-mm-Wafer kann das Front-End der Anlage mit SMIF (Standard Mechanical Interface)-Pods ausgestattet werden, um die Exposition der Epitaxiewafer gegenüber der Raumumgebung weiter zu minimieren. Die automatische Reaktorreinigung ermöglicht es dem Benutzer, die Kammerbedingungen bei Bedarf neu einzustellen – entweder nach jedem Prozesslauf für die anspruchsvollsten Anforderungen oder nach einer Produktionskampagne für den höchsten Ausstoß an Epi-Wafern pro Zeit. Die Plattform basiert auf dem erfolgreichen Planetary Reactor-Prinzip, das ein Multiwafer-Batch-Reaktorkonzept mit der Rotation der einzelnen Wafer kombiniert, um höchste Homogenität der Abscheidung zu gewährleisten.