Neues Kompetenzzentrum für Nanoimprinting in Nordamerika

(DGAP-Media / 18.08.2015 / 14:00)

Neues Kompetenzzentrum für Nanoimprinting in Nordamerika

Garching, 18. August 2015 - SÜSS MicroTec, führender Anbieter von Anlagen-
und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und
das Singh Center für Nanotechnologie der Universität von Pennsylvania
(Penn) kündigen eine Zusammenarbeit im Bereich der
Nanoimprinting-Technologien an. Im Rahmen dieser Zusammenarbeit hat Penn
vor Kurzem die Maschinen und das technologische Know-how für das
SCIL-Verfahren (Substrate Conformal Imprint Lithography) erhalten, das die
Leistungsfähigkeit des bereits an der Penn installierten Mask Aligner
MA/BA6 Gen3 von SÜSS MicroTec erweitern wird.

Bei der SCIL-Technologie handelt es sich um ein Nanoimprinting-Verfahren,
das die Vorteile der weichen und starren Stempel vereint und so die
Reproduzierung großflächiger Strukturen bei einer Auflösung von unter 50 nm
ermöglicht. SCIL kommt in vielfältigen Bereichen zum Einsatz, von HB-LEDs
und Photovoltaik über MEMS und NEMS bis hin zur Massenproduktion von
optischen Gittern für die Gassensorik und die Telekommunikation.

Das Singh Center für Nanotechnologie plant den Einsatz der SCIL-Technologie
in plasmonischen Bauteilen, Halbleiter-Nanodrähten, in flexibler
nanokristalliner Elektronik sowie in biologisch abbaubaren Sensoren und
MEMS-Batterien. Darüber hinaus leitet Lithography Manager Dr. Gerald Lopez
die Arbeiten des Centers zur Qualifizierung neuer
Nanoimprinting-Materialien sowie zur Entwicklung der entsprechenden
Prozesstechnologie in enger Zusammenarbeit mit SÜSS MicroTec.

Als weiterer bedeutender Bestandteil dieser Zusammenarbeit erhalten die
Kunden von SÜSS MicroTec direkten Zugang zu den Reinraumeinrichtungen und
den Anlagen der Universität von Pennsylvania, die als Demo-Center für die
nordamerikanischen Kunden dient. Durch das enorme Maß an Erfahrung und das
hohe technologische Niveau der Penn können die Kunden den gesamten
Prozessfluss einsehen, d. h. sowohl den Prägungsprozess selbst als auch die
nachfolgenden Schritte bis hin zum fertigen Gerät.

"Wir freuen uns über die Zusammenarbeit mit SÜSS MicroTec in der
Entwicklung von Anwendungen mit SCIL. Indem wir unsere Stärken in der
Mikro- und Nanofabrikation vereinen, sind wir in der Lage, unseren
Forschern einzigartige Nanoimprinting-Leistungen zu bieten", erklärten
Professor Mark Allen, Scientific Director des Singh Centers für
Nanotechnologie, und Alfred Fitler Moore, Professor of Electrical & Systems
Engineering. "Diese industrielle Partnerschaft ist eine Bereicherung für
uns, denn so können wir besser demonstrieren, inwiefern die
Nanoimprinting-Technologie als Katalysator für die Forschung dienen kann