AIXTRON gewinnt renommierten Deutschen Innovationspreis (FOTO)
Herzogenrath (ots) - AIXTRON (FSE: AIXA) hat den Deutschen Innovationspreis
gewonnen. Der renommierte Preis wird von der WirtschaftsWoche, Accenture, EnBW
und O2 Telefónica unter Schirmherrschaft des Bundesministeriums für Wirtschaft
und Klimaschutz verliehen. Überreicht wurde der Preis an die Gewinner in den
drei Kategorien Großunternehmen, Mittelständische Unternehmen und Start-ups bei
einem Festakt am vergangenen Donnerstagabend in München. AIXTRON, ein weltweit
führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, setzte
sich bei den Großunternehmen durch.
Seit 2010 wird die Auszeichnung an Unternehmen verliehen, die mit ihren
Innovationen und Technologien die Wettbewerbsfähigkeit Deutschlands
gewährleisten und maßgeblich dazu beitragen, große globale Herausforderungen zu
lösen.
gewonnen. Der renommierte Preis wird von der WirtschaftsWoche, Accenture, EnBW
und O2 Telefónica unter Schirmherrschaft des Bundesministeriums für Wirtschaft
und Klimaschutz verliehen. Überreicht wurde der Preis an die Gewinner in den
drei Kategorien Großunternehmen, Mittelständische Unternehmen und Start-ups bei
einem Festakt am vergangenen Donnerstagabend in München. AIXTRON, ein weltweit
führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, setzte
sich bei den Großunternehmen durch.
Seit 2010 wird die Auszeichnung an Unternehmen verliehen, die mit ihren
Innovationen und Technologien die Wettbewerbsfähigkeit Deutschlands
gewährleisten und maßgeblich dazu beitragen, große globale Herausforderungen zu
lösen.
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Für AIXTRON nahm Dr. Felix Grawert, Vorstandsvorsitzender der AIXTRON SE , die
Auszeichnung in Empfang: "Es ist mir eine große Ehre, diesen wichtigen Preis für
AIXTRON und damit stellvertretend für unser gesamtes Team entgegenzunehmen. Der
Deutsche Innovationspreis ist nicht nur eine Anerkennung für die Innovationen,
die wir geschaffen haben, sondern auch ein Zeugnis für die erstklassige Arbeit
und das Engagement unseres Teams. Mit unserer neuen G10-Produktfamilie setzen
wir in der Halbleiterindustrie neue Maßstäbe bei Produktivität und Leistung.
Damit tragen wir dazu bei, CO2-Emissionen zu reduzieren und - indem wir einen
schnelleren, umfassenderen Datenaustausch zwischen den Menschen ermöglichen -
legen wir den Grundstein für die digitale Gesellschaft der Zukunft."
Das Hightech-Unternehmen AIXTRON aus Herzogenrath (Deutschland) ist
Weltmarktführer für Halbleiter-Depositionstechnologie auf Basis von MOCVD
(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition). Die von AIXTRON hergestellten
Produktionsanlagen werden zur Produktion von Verbindungshalbleitern auf Basis
von Siliziumkarbid (SiC), Galliumnitrid (GaN) oder Galliumarsenid (GaAs)
eingesetzt. Mit der neuen G10-Produktfamilie, die seit 2022 auf dem Markt ist,
hat AIXTRON entscheidend dazu beigetragen, Verbindungshalbleiter auf breiter
Basis kommerziell verfügbar zu machen. In der Vergangenheit wurden
Verbindungshalbleiter nur in Spezialanwendungen der Optoelektronik eingesetzt,
zum Beispiel für die Datenübertragung mittels Laser und in LEDs für die
klassische Beleuchtung.
Durch Verbesserungen bei der Produktivität und den Kosten ist der Einsatz von
Verbindungshalbleitern nun für eine Vielzahl von Anwendungen kommerziell
Auszeichnung in Empfang: "Es ist mir eine große Ehre, diesen wichtigen Preis für
AIXTRON und damit stellvertretend für unser gesamtes Team entgegenzunehmen. Der
Deutsche Innovationspreis ist nicht nur eine Anerkennung für die Innovationen,
die wir geschaffen haben, sondern auch ein Zeugnis für die erstklassige Arbeit
und das Engagement unseres Teams. Mit unserer neuen G10-Produktfamilie setzen
wir in der Halbleiterindustrie neue Maßstäbe bei Produktivität und Leistung.
Damit tragen wir dazu bei, CO2-Emissionen zu reduzieren und - indem wir einen
schnelleren, umfassenderen Datenaustausch zwischen den Menschen ermöglichen -
legen wir den Grundstein für die digitale Gesellschaft der Zukunft."
Das Hightech-Unternehmen AIXTRON aus Herzogenrath (Deutschland) ist
Weltmarktführer für Halbleiter-Depositionstechnologie auf Basis von MOCVD
(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition). Die von AIXTRON hergestellten
Produktionsanlagen werden zur Produktion von Verbindungshalbleitern auf Basis
von Siliziumkarbid (SiC), Galliumnitrid (GaN) oder Galliumarsenid (GaAs)
eingesetzt. Mit der neuen G10-Produktfamilie, die seit 2022 auf dem Markt ist,
hat AIXTRON entscheidend dazu beigetragen, Verbindungshalbleiter auf breiter
Basis kommerziell verfügbar zu machen. In der Vergangenheit wurden
Verbindungshalbleiter nur in Spezialanwendungen der Optoelektronik eingesetzt,
zum Beispiel für die Datenübertragung mittels Laser und in LEDs für die
klassische Beleuchtung.
Durch Verbesserungen bei der Produktivität und den Kosten ist der Einsatz von
Verbindungshalbleitern nun für eine Vielzahl von Anwendungen kommerziell
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