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    Faktor Zertifikat auf Applied Materials 9,00x Long Open End (MS) Zertifikat

    28,42
     
    EUR
    +5,61 %
    +1,51 EUR
    Letzter Kurs 14:39:58 Euwax
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    2.500 STK
    Geldkurs 16:22:20
    27,98
     
    EUR
    2.500 STK
    Briefkurs 16:22:20
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    ISIN: DE000MG2U706 · WKN: MG2U70

    Chart für Applied Materials Faktor 9,00x Long Open End (MS) - MG2U70

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    Wichtige Hinweise für den Anleger

    Tägliche 9-fache Partizipation in beide Richtungen an der Kursentwicklung von Applied Materials. Die Strategie des Zertifikates ist Long ausgerichtet.

    Basiswertinformationen auf Applied Materials

    Applied MaterialsAktie
    ISIN: US0382221051 · WKN: 865177
    204,38
     
    EUR
    +0,42 %
    +0,85 EUR
    Letzter Kurs 16:41:52 TTMzero
    222,10
     
    USD
    +0,42 %
    +0,92 USD
    Letzter Kurs 16:41:52 Indikation

    Performancevergleich

    ZeitraumPerformance in %Performance in %
    Vortag3,98 %0,42 %
    1 Woche8,07 %0,98 %
    1 Monat53,15 %7,28 %
    3 Monate-48,38 %
    6 Monate-39,07 %
    Lfd. Jahr-60,55 %
    1 Jahr-12,95 %

    Aktueller Kurs zu MG2U70

    BörsenplatzEuwax
    Letzter Kurs28,42 EUR
    Performance+5,61 %
    Kurszeit14:39:58
    Eröffnung26,09 EUR
    Tageshoch29,21 EUR
    Tagestief26,01 EUR
    Vortageskurs26,91 EUR

    Stammdaten MG2U70

    NameFaktor Zertifikat auf Applied Materials 9,00x Long Open End (MS)
    ISINDE000MG2U706
    WKNMG2U70
    Zertifikat-ArtFaktor
    Zertifikat-TypClassic
    StrategieLong
    Partizipationsfaktor9,00 x
    QuantoNein

    Kennzahlen

    KennzahlAbsolutRelativ
    RestlaufzeitOpen End
    Spread0,13 EUR0,46 %

    Handel

    BewertungstagOpen End
    AbwicklungsartBarausgleich
    AusübungstypAmerikanisch
    Mindesthandelsgröße1 Stück
    NotierungStücknotiz
    Handelszeit8-22 Uhr

    Emission

    Emittent Morgan Stanley
    KreditausfallschutzNein
    Emissionstag23.04.2024
    Erster Handelstag23.04.2024
    Emissionspreis10,00 EUR
    Emissionsvolumen3,1 Mio.

    Anlage

    AnlageAktie
    ThemaNanotechnologie
    RegionUSA