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SÜSS MicroTec SE: SÜSS MicroTec und micro resist technology GmbH kooperieren bei der Weiterentwicklung der Nanoimprint-Lithografie

DGAP-News: SÜSS MicroTec SE / Schlagwort(e): Kooperation/Strategische Unternehmensentscheidung SÜSS MicroTec SE: SÜSS MicroTec und micro resist technology GmbH kooperieren bei der Weiterentwicklung der Nanoimprint-Lithografie 09.06.2020 / 14:05 Für den Inhalt der Mitteilung ist der Emittent / Herausgeber verantwortlich. Pressemitteilung:

SÜSS MicroTec und micro resist technology GmbH kooperieren bei der Weiterentwicklung der Nanoimprint-Lithografie

SÜSS MicroTec und micro resist technology GmbH kündigen ein Joint Venture an, um den Einsatz der Nanoimprint-Lithografie (NIL) bei der Herstellung zukünftiger Anwendungen weiter voranzutreiben. Die Kooperation ist unter dem Dach des SUSS Imprint Excellence Center angesiedelt.

Garching und Berlin, 9. Juni 2020 - SÜSS MicroTec, führender Anbieter von Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und micro resist technology GmbH, ein führendes Unternehmen für die Entwicklung und Herstellung innovativer Fotoresiste und fortschrittlicher Nanoimprint-Materialien, geben heute ihre Zusammenarbeit auf dem Gebiet der Nanoimprint-Lithografie (NIL) bekannt. NIL ist ein Schlüsselfaktor für die Revolution in der additiven Fertigung durch High-Fidelity-Musterübertragung. Dieses UV-Härtungs-Prägeverfahren wird zunehmend eingesetzt bei der Herstellung zukünftiger Anwendungen in der Photonik, wie z.B. diffraktive optische Elemente in Augmented-Reality-Brillen oder für die Gesichtserkennung sowie für den Transfer von Mikro- und Nano-Strukturen, z.B. in optischen Sensoren, Laser-Nano-PSS (Patterned Sapphire Substrates) oder für den Fälschungsschutz.

Die Anforderungen an die Nanoimprint-Lithografie und ihre Anwendungen ist in stetigem Wandel. Das grundlegende Ziel der Zusammenarbeit besteht daher darin, neu entstehende Anforderungen zu verstehen und hierfür Lösungen sowohl auf Prozess- als auch auf Materialebene zu implementieren, um so den hohen Herausforderungen der Industrie zu entsprechen.